ITO靶材是溅射靶材中的一种,主要通过磁控溅射将ITO靶材气化,溅镀到玻璃基板或柔性有机薄膜上,制造成ITO薄膜,后者为透明导电氧化物薄膜,厚度一般为30-200纳米。
据赛瑞研究报道,2019年全球溅射靶材市场规模约163亿美元,2015年以来年复合增长率超10%,预计2020年全球靶材市场规模将超过190亿美元,其中ITO靶材市场规模将超过30亿美元。
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